【技术实现步骤摘要】
本技术涉及硅片生产,尤其涉及一种载片舟清洗装置的外腔结构和载片舟清洗装置。
技术介绍
1、载片舟(石英舟、石墨舟)作为一种载具,用于承载硅片进入反应腔内进行气相沉积反应,然而,反应气体在硅片的表面发生气相沉积的同时,也会在载片舟的表面发生沉积。当载片舟工作一定次数,其表面的薄膜达到一定厚度后,需要将载片舟拆散成多个舟叶运送至含酸或碱清洗剂的清洗池内,对载片舟的舟表面的薄膜清洗,清洗完成后的载片舟再进行烘干、组装。
2、相关技术中,在对载片舟进行清洗时,需要将载片舟拆散、清洗、烘干后再进行组装,导致载片舟的清洗效率较低。
3、为此,申请人设计出一种载片舟清洗装置的外腔结构和载片舟清洗装置以解决上述问题。
技术实现思路
1、本技术的目的之一在于提供一种载片舟清洗装置的外腔结构,用于保护反应腔,并使反应腔周围的工作环境达到要求的洁净度。
2、本技术的另一目的在于提供一种载片舟清洗装置,无需将载片舟拆散、清洗烘干后再进行组装,清洗效率高,而且可以保护反应腔,并使
...【技术保护点】
1.载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,所述外壳(2)上具有第一翻边(205),所述第一翻边(205)环绕所述第一开口(201)设置,所述第一密封件(4)止抵在所述第一翻边(205)上。
3.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,还包括第三开口(204),所述第三开口(204)开设于所述外壳(2)上且与所述真空腔(3)连通,所述内壳(1)通过所述第三开口(204)放置于所述真空腔(3)内。
4.根据权利要求3所述的载片舟清洗装置的外腔结构,其
...【技术特征摘要】
1.载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,包括:
2.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,所述外壳(2)上具有第一翻边(205),所述第一翻边(205)环绕所述第一开口(201)设置,所述第一密封件(4)止抵在所述第一翻边(205)上。
3.根据权利要求1所述的载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,还包括第三开口(204),所述第三开口(204)开设于所述外壳(2)上且与所述真空腔(3)连通,所述内壳(1)通过所述第三开口(204)放置于所述真空腔(3)内。
4.根据权利要求3所述的载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,还包括带有加强结构的第三密封件(12),所述第三密封件(12)密封盖设于所述第三开口(204)上。
5.根据权利要求4所述的载片舟清洗装置的外腔结构,其特征在于,所述加强结构包括第一加强肋板(212)和第二加强肋板(213),多个所述第一加强肋板(212)平行且间隔设置于所述第三密封件(12)的外壁面,多个所...
【专利技术属性】
技术研发人员:王树林,李鹏飞,武凯,王岩,杨震,
申请(专利权)人:浙江晶盛光子科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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