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本发明公开了一种ITO蚀刻液，属于蚀刻液技术领域。一种ITO蚀刻液，由以下质量分数的原料构成：8～18%无机酸、1～5%钾盐、0.2～0.8%助剂、0.05～0.5%表面活性剂、75～90%去离子水。含苯并咪唑结构和异噻唑啉酮结构的助剂能均...
该专利属于合肥中聚和成电子材料有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过合肥中聚和成电子材料有限公司授权不得商用。

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