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纳米压印光刻模具、拼接系统和方法技术方案
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文档序号:42229606
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一种纳米压印光刻模具、纳米压印光刻拼接系统和切割纳米压印光刻衬底方法,其采用具有精密边缘和底切侧壁的纳米压印光刻模具。精密边缘具有纳米级粗糙度,并且在距纳米压印光刻模具的特征预定距离处与纳米压印光刻模具的顶表面相邻。底切侧壁从精密边缘延伸到...
该专利属于镭亚股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过镭亚股份有限公司授权不得商用。
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