【技术实现步骤摘要】
【国外来华专利技术】
技术介绍
1、电子显示器是用于向各种各样的设备和产品的用户传达信息的几乎无处不在的介质。最常见的电子显示器是阴极射线管(crt)、等离子体显示面板(pdp)、液晶显示器(lcd)、电致发光显示器(el)、有机发光二极管(oled)和有源矩阵oled(amoled)显示器、电泳显示器(ep)和采用机电或电流体光调制的各种显示器(例如，数字微镜装置、电润湿显示器等)。许多这些现代显示器需要高精度制造来制造各种显示结构和元件。
2、压印光刻，包括纳米压印光刻，是用于生产与现代电子显示器相关联的各种结构和元件的多种制造技术之一。具体地，纳米压印光刻通常在提供具有非常高精度的亚微米或纳米级特征方面表现出色，并且易于适应大规模生产。例如，纳米压印光刻可用于通过将具有纳米级压印图案的晶片聚集在一起或拼接来产生具有纳米级特征的印模或模具。模具母版可用于纳米压印光刻以将图案压印到接收衬底上。此外，各种大批量制造方法，包括但不限于卷对卷压印，可以与纳米压印光刻和用于大规模生产的模具母版结合使用。然而，在大面积模具母版上提供亚微米或纳米级特征精...
【技术保护点】
1.一种纳米压印光刻模具，包括：
2.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述精密边缘从所述纳米压印光刻模具的所述顶表面朝向所述底表面延伸，并且具有从所述顶表面测量的大于100微米的范围。
3.如权利要求2所述的纳米压印光刻模具，其中所述精密边缘垂直于所述纳米压印光刻模具的所述顶表面。
4.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述底切侧壁延伸到所述纳米压印光刻模具的所述顶表面，所述精密边缘是所述顶表面处的刀刃。
5.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述底切侧壁包括从与所述精密边缘相邻的端部到所述纳米压印光...
【技术特征摘要】
【国外来华专利技术】
1.一种纳米压印光刻模具，包括：
2.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述精密边缘从所述纳米压印光刻模具的所述顶表面朝向所述底表面延伸，并且具有从所述顶表面测量的大于100微米的范围。
3.如权利要求2所述的纳米压印光刻模具，其中所述精密边缘垂直于所述纳米压印光刻模具的所述顶表面。
4.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述底切侧壁延伸到所述纳米压印光刻模具的所述顶表面，所述精密边缘是所述顶表面处的刀刃。
5.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述底切侧壁包括从与所述精密边缘相邻的端部到所述纳米压印光刻模具的所述底表面处的端部的逐渐缩窄形，所述逐渐缩窄形朝向所述纳米压印光刻模具的中心并提供所述底切侧壁的表面。
6.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述底切侧壁包括从所述精密边缘朝向所述纳米压印光刻模具的中心阶梯后退的轮廓以提供所述底切侧壁的表面。
7.如权利要求1所述的纳米压印光刻模具，其中所述精密边缘具有小于5微米的平均粗糙度值，所述底切侧壁的平均粗糙度小于从所述底切侧壁到所述精密边缘的平面的距离的约一半。
8.一种纳米压印光刻拼接系统，包括：
9.如权利要求8所述的纳米压印光刻拼接系统，其中所述精密边缘从所述纳米压印光刻模具的顶表面朝向底表面延伸，所述精密边缘的范围大于100微米。
10.如权利要求8所述的纳米压印光刻拼接系统，其中所述底切侧壁各自包括从与所述精密边缘相邻的端部到所述纳米压印光刻模具的底表面处的端部的逐渐缩窄形，所述逐渐缩窄形朝向所述纳米压印光刻模具中的相应纳米压印光刻模具的中心部分。
11.如权利要求8所述的纳米压印光刻拼接系统，其中所述精密边缘的纳米级粗糙度的平均粗糙度小于5微米。
12.一种切割纳米压印光刻衬底以提供纳米压印光刻模具的方法，所述方...
【专利技术属性】
技术研发人员：E·索伊奇，F·高，Z·彭，S·沃，
申请(专利权)人：镭亚股份有限公司，
类型：发明
国别省市：
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