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本发明公开了一种HVLP极低轮廓铜箔生产用添加剂的制备方法、制品及其应用，其包括N,N‑二甲硫代羰基丙烷磺酸钠、聚二硫二丙烷酸磺钠、异硫脲丙磺酸内盐、甘油醚聚氧乙烯醚、明胶、氯化钠；使得电解液中的铜离子在阴极(钛辊)表面均匀沉积，以确保铜箔...
该专利属于安徽华威铜箔科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安徽华威铜箔科技有限公司授权不得商用。

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