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半导体器件制造技术
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文档序号:42205943
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本申请提供了一种半导体器件,包括半导体层与沟槽栅极结构,半导体层具有相对的第一表面和第二表面,包括:源区,自第一表面向第二表面延伸;漂移区和体区,至少部分漂移区位于体区和第二表面之间,体区的第一部分位于源区和漂移区之间;其中,在第一表面内,...
该专利属于重庆奕能科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过重庆奕能科技有限公司授权不得商用。
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