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本发明提供一种小尺寸的硅光学部件。本发明的硅光学部件的制造方法具有如下的工序：准备具有第一主面及所述第一主面相反侧的第二主面的硅基板；在所述第一主面上形成掩模图案；使用所述掩模图案作为掩模从所述第一主面侧对所述硅基板进行湿式蚀刻，形成一个或...
该专利属于日亚化学工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过日亚化学工业株式会社授权不得商用。

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