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本公开提供了一种衬底和发光二极管,属于光电子制造技术领域。该衬底包括基底和位于所述基底的表面的多个凸起,所述多个凸起间隔排布;所述凸起的高度为0.75μm至1.05μm,所述凸起的最大宽度为1.60μm至2.05μm,相邻两个所述凸起的间距...该专利属于京东方华灿光电(苏州)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过京东方华灿光电(苏州)有限公司授权不得商用。
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