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本发明提出一种双折射晶体的厚度与群折射率同步测量装置及方法，包括光源、光纤耦合器、参考臂、探测臂组成的光学干涉装置，还包括光谱仪和上位机；所述干涉装置在测量双折射晶体的厚度与群折射率时，将晶体的厚度与群折射率调制生成干涉光信号，具体为：光源...
该专利属于福州大学所有，仅供学习研究参考，未经过福州大学授权不得商用。

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