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本技术公开了自动清理刻蚀结晶的装置，包括：刻蚀槽；溢流槽，溢流槽与刻蚀槽通过第一挡板间隔；结晶废液槽，结晶废液槽与溢流槽通过第二挡板间隔，且第二挡板沿着装置的高度方向朝上延伸，第二挡板上设有通槽，以使硅片能从通槽中通过；冲洗单元，冲洗单元包...
该专利属于通威太阳能（成都）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过通威太阳能（成都）有限公司授权不得商用。

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