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本发明提供了一种超小尺寸缺陷检测方法，属于半导体领域。该超小尺寸缺陷检测方法包括提供一半导体结构层，所述半导体结构层的表面具有造成所述半导体结构层异常的超小尺寸缺陷；在所述半导体结构层表面沉积膜层，所述膜层至少部分包裹所述超小尺寸缺陷；通过...
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