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本技术是一种镀膜设备用集成真空系统,其结构包括一个以上工艺腔、与工艺腔数量相等的真空挡板阀和粉尘过滤器,以及一个真空过渡罐,每个真空泵分别通过管道串联一个真空挡板阀和一个粉尘过滤器,所有粉尘过滤器分别通过管道连通同一真空过渡罐,每个工艺腔分...该专利属于艾华(无锡)半导体科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过艾华(无锡)半导体科技有限公司授权不得商用。
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