【技术实现步骤摘要】
本技术涉及的是一种镀膜设备用集成真空系统,属于真空镀膜设备。
技术介绍
1、现有技术中,原子层沉积镀膜设备一般每个工艺腔配置单独的真空泵(图1),即采用独立的真空系统。
2、在设备运行中,由于粉尘沉积到真空泵内或真空泵发热等其它故障,会导致真空泵的转子瞬间卡住,进而停止运行,此时真空泵上真空挡板阀在自动化程序控制下会立即自动关闭,但由于电器元件的信号响应和机械结构的运动时间限制,真空挡板阀完全关闭有大约0.5秒的延时。工艺腔内是极限真空,和外部空间有1个大气压的压差,在这延时的0.5秒内,外部的空气会瞬间倒吸入到工艺腔内,同时把管道和过滤器内的粉尘带到工艺腔,导致工艺腔内正在工艺的晶圆产生粉尘污染,影响生产正常进行。
技术实现思路
1、本技术提出的是一种镀膜设备用集成真空系统,其目的旨在克服现有技术存在的上述不足,在真空泵发生故障时保证生产正常进行。
2、本技术的技术解决方案:一种镀膜设备用集成真空系统,其结构包括多个真空泵、多个真空挡板阀、多个粉尘过滤器、一个真空
...【技术保护点】
1.一种镀膜设备用集成真空系统,其特征在于,包括一个以上工艺腔(6)、与工艺腔(6)数量相等的A真空挡板阀(2)和粉尘过滤器(3),以及一个真空过渡罐(4),每个真空泵(1)分别通过管道串联一个A真空挡板阀(2)和一个粉尘过滤器(3),所有粉尘过滤器(3)分别通过管道连通同一真空过渡罐(4),每个工艺腔(6)分别通过管道连接同一所述的真空过渡罐(4)。
2.如权利要求1所述的一种镀膜设备用集成真空系统,其特征在于,还包括与工艺腔(6)数量相等的B真空挡板阀(5),每个B真空挡板阀(5)对应设置在每个工艺腔(6)与真空过渡罐(4)之间的管道上。
【技术特征摘要】
1.一种镀膜设备用集成真空系统,其特征在于,包括一个以上工艺腔(6)、与工艺腔(6)数量相等的a真空挡板阀(2)和粉尘过滤器(3),以及一个真空过渡罐(4),每个真空泵(1)分别通过管道串联一个a真空挡板阀(2)和一个粉尘过滤器(3),所有粉尘过滤器(3)分别通过管道连通同一真空...
【专利技术属性】
技术研发人员:宣荣卫,钱刚祥,
申请(专利权)人:艾华无锡半导体科技有限公司,
类型:新型
国别省市:
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