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本技术提供一种背面钉状电极的SGT MOSFET结构,包括:主体和晶圆主体,所述主体的背面设置有漏极;衬底,所述衬底设置于所述主体的背面,所述衬底的表面设置有衬底钉状凹孔;源极,所述源极设置于所述主体的正面,半导体,所述半导体设置于所述主体...该专利属于陕西电子芯业时代科技有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过陕西电子芯业时代科技有限公司授权不得商用。
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本技术提供一种背面钉状电极的SGT MOSFET结构,包括:主体和晶圆主体,所述主体的背面设置有漏极;衬底,所述衬底设置于所述主体的背面,所述衬底的表面设置有衬底钉状凹孔;源极,所述源极设置于所述主体的正面,半导体,所述半导体设置于所述主体...