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本发明公开了一种低爬升高初粘硅胶保护膜及其制备方法，其特征是：低爬升高初粘硅胶保护膜依次由离型膜基材层、离型膜层、硅胶层、第二抗静电层、基材层和第一抗静电层复合组成；所述基材层是PET薄膜、PI薄膜、PEN薄膜中的任一种；所述硅胶层由有机硅...
该专利属于四川东材新材料有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过四川东材新材料有限责任公司授权不得商用。

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