下载一种低电压蠕变的P型沟槽栅MOS器件及制造方法的技术资料

文档序号:42106829

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本发明涉及半导体技术领域,尤其涉及一种低电压蠕变的P型沟槽栅MOS器件,该器件包括:P型衬底、P型外延层、元胞区和环绕所述元胞区的终端区;所述P型外延层位于所述P型衬底之上;所述元胞区和所述终端区位于所述P型外延层上,所述元胞区的N型阱区延...
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