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本发明公开了一种真空镀膜设备及其控制方法，真空镀膜设备包括基片台、顶针和封孔件，基片台位于真空腔室内用于放置基片，基片台设置有多个过孔，顶针与过孔对应设置，顶针可升降运动，且顶针可穿过过孔以承托基片，封孔件活动连接于基片台或顶针，封孔件在活...
该专利属于江苏微导纳米科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过江苏微导纳米科技股份有限公司授权不得商用。

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