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本发明公开了一种实现一次涂胶重复光刻的图形转移方法及相关设备，在涂胶完成的圆片上，使用同一张光刻版在第一次曝光后，不重新更换光刻版的情况下，设置第一次曝光参数，根据第一次曝光参数对光刻版进行一次曝光，根据光刻版一次曝光后的曝光场的大小和分布...
该专利属于西安微电子技术研究所所有，仅供学习研究参考，未经过西安微电子技术研究所授权不得商用。

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