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本发明提供了一种低缺陷抛光垫的制备方法,所述抛光垫以聚氨酯为主要抛光组分,并添加有处理过的聚合物微球作为助剂。本发明以经过溶剂处理过的聚合物微球作为填料,抛光垫孔具有尺寸均匀,平坦度高的优点,不易在半导体晶圆表面产生划伤;另外溶剂由于浸润到...该专利属于万华化学集团电子材料有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过万华化学集团电子材料有限公司授权不得商用。
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本发明提供了一种低缺陷抛光垫的制备方法,所述抛光垫以聚氨酯为主要抛光组分,并添加有处理过的聚合物微球作为助剂。本发明以经过溶剂处理过的聚合物微球作为填料,抛光垫孔具有尺寸均匀,平坦度高的优点,不易在半导体晶圆表面产生划伤;另外溶剂由于浸润到...