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本发明公开了一种简谐运动式晶圆清洗干燥装置及其清洗干燥方法，具体涉及半导体加工技术领域，包括清洗槽，清洗槽的上方设置有升降单元和一对往复驱动结构，一对往复驱动结构设置在升降单元上，每个往复驱动结构上设置有移动架，每个移动架上固定连接有吊盘，...
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