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本技术公开了一种改善ALD镀膜的腔体结构，属于半导体技术领域，包括镀膜设备，述镀膜设备上安装有反应腔体组件，还包括通气组件，所述通气组件设于镀膜设备连接且安装于反应腔体组件上；所述反应腔体组件包括内腔体组件和固定组件，所述内腔体组件和镀膜设...
该专利属于泽鸿半导体设备科技（苏州）有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过泽鸿半导体设备科技（苏州）有限公司授权不得商用。

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