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本发明涉及一种提供乙炔到使用点的系统和工艺，所述乙炔尤其是高纯度水平的（例如，含有百万分之１００（“ｐｐｍ”），或者１０ｐｐｍ，或者１ｐｐｍ，或者十亿分之１００（“ｐｐｂ”），或者１０ｐｐｂ，或者１ｐｐｂ或者更少的溶剂），用于例如半导体生产...
该专利属于气体产品与化学公司所有，仅供学习研究参考，未经过气体产品与化学公司授权不得商用。

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