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本文公开了一种用于形成MEMS IMU的工艺流程，MEMS IMU包括加速度计和陀螺仪，加速度计和陀螺仪各自位于被保持处于不同压力的单独的密封腔中。MEMS IMU的形成包括：使用第一vHF释放，对在包含加速度计和陀螺仪的结构层下面的牺牲层...
该专利属于意法半导体国际公司所有，仅供学习研究参考，未经过意法半导体国际公司授权不得商用。

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