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具有多形态材料的集成电路结构的制备方法技术
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文档序号:4202022
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本发明涉及一种具有多形态材料的集成电路结构的制备方法,该方法首先形成前驱层于基板上,该前驱层在转换温度区间有具有相转换特性。之后,在第一温度下进行预定时间的第一热处理工艺,以便将该前驱层转换成具有预定晶相的多形态层,该第一温度高于该转换温度...
该专利属于茂德科技股份有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过茂德科技股份有限公司授权不得商用。
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