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本技术公开了一种等离子体蚀刻设备，包括：第一主体、第二主体以及均匀聚焦机构，第一容腔与第二容腔对接形成蚀刻腔，第一容腔内设置有用以固定晶圆的固定机构，第二容腔的顶部连通有蚀刻气体供应管道，均匀聚焦机构可拆卸连接于第二容腔内，均匀聚焦机构设置...
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