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用于非常大面积基片的真空处理室制造技术
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下载用于非常大面积基片的真空处理室的技术资料
文档序号:4201716
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根据本发明的大尺寸基片PECV0处理的等离子体反应器,包括作为外室的真空处理室和带有电极喷头作为RF天线的至少一个内部反应器,所述内部反应器还包括反应器底部和反应器顶部,由此加强件支撑反应器顶部和/或反应器底部,加强件经由补偿隔件(4)连接...
该专利属于OC欧瑞康巴尔斯公司所有,仅供学习研究参考,未经过OC欧瑞康巴尔斯公司授权不得商用。
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