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一种结构化图形的背面刻蚀流程方法，包括以下步骤：S1、在衬底表面制备具有正面起伏图形的结构；S2、采用PECVD在衬底背面生长一层掩膜层；S3、正面涂覆光刻胶，用来平坦化；S4、在正面的光刻胶上面涂覆半透明状的保护膜；本发明相较于传统的方法...
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