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一种利用附加压强调控微透镜面形的方法技术
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文档序号:42015998
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本发明属于微纳光学器件制备领域,公开了一种利用附加压强调控微透镜面形的方法,包括以下步骤:(1)在衬底上涂覆光刻胶层并形成光刻胶胶柱结构;(2)将位于衬底上的光刻胶胶柱结构通过热回流工艺形成具有曲面面形的光刻胶结构,在热回流工艺的同时,通过...
该专利属于华中科技大学所有,仅供学习研究参考,未经过华中科技大学授权不得商用。
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