一种利用附加压强调控微透镜面形的方法技术

技术编号:42015998 阅读:20 留言:0更新日期:2024-07-16 23:09
本发明专利技术属于微纳光学器件制备领域,公开了一种利用附加压强调控微透镜面形的方法,包括以下步骤:(1)在衬底上涂覆光刻胶层并形成光刻胶胶柱结构;(2)将位于衬底上的光刻胶胶柱结构通过热回流工艺形成具有曲面面形的光刻胶结构,在热回流工艺的同时,通过压力控制装置施加附加压强,从而调节光刻胶结构的曲面面形;(3)使用刻蚀工艺,使光刻胶结构的曲面面形转移到衬底上,得到微透镜。本发明专利技术通过引入压力控制装置主动调控热回流时光刻胶外部环境气压,光刻胶在热回流过程中形成的曲面面形的受附加压强的调节,相当于在光刻胶的热回流过程中引入了一个新的调控参量,为面形调控提供了新途径,操作方便,调控灵活。

【技术实现步骤摘要】

本专利技术属于微纳光学器件制备领域,更具体地,涉及一种利用附加压强调控微透镜面形的方法,有助于获得不同曲率半径的微透镜。


技术介绍

1、微透镜是一种具有微米级尺寸的透镜结构。相比于传统的透镜,微透镜具有体积小、易于集成等优势,且能够实现透镜基本功能和更多实用功能,例如光计算、光数据传输、光阵列成像等等。目前主要的微透镜制备技术包括全息法、平面工艺离子交换法、菲涅耳波带透镜法、光敏玻璃法以及光刻胶热回流技术等,其中光刻胶热回流技术因其快速、简单和低成本的优势已成为微透镜制备领域最热门的方法之一。

2、然而,用光刻胶热回流技术制备微透镜所存在的主要问题是:光刻胶热熔后与衬底的接触角决定了微透镜的面形,这与光刻胶的属性和衬底表面的属性紧密相关,并与光刻胶的厚度和微透镜的半径无关,这限制了光刻胶热熔后形成的微透镜的面形与应用范围。

3、中国专利cn202210911073.0公开了一种通过氮氧三元化合物界面层改变衬底表面的亲疏水性,使得后续光刻胶柱在热回流时与衬底的接触角α在一定范围连续可调,进而使得制备的微透镜面形在一定范围内连续可调,有本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种利用附加压强调控微透镜面形的方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述方法,其特征在于,步骤(2)中,所述压力控制装置施加附加压强是通过抽真空或是通过额外加压实现的;

3.如权利要求1所述方法,其特征在于,步骤(2)中,所述压力控制装置施加附加压强是用于向处于热回流工艺中的具有曲面面形的光刻胶结构提供0.1×10-7~0.1×103MPa的压强。

4.如权利要求1所述方法,其特征在于,步骤(1)中,所述光刻胶胶柱结构为周期性阵列;

5.如权利要求1所述方法,其特征在于,步骤(1)中,所述衬底选自硅、锗、玻璃、石英、蓝宝石...

【技术特征摘要】

1.一种利用附加压强调控微透镜面形的方法,其特征在于,包括以下步骤:

2.如权利要求1所述方法,其特征在于,步骤(2)中,所述压力控制装置施加附加压强是通过抽真空或是通过额外加压实现的;

3.如权利要求1所述方法,其特征在于,步骤(2)中,所述压力控制装置施加附加压强是用于向处于热回流工艺中的具有曲面面形的光刻胶结构提供0.1×10-7~0.1×103mpa的压强。

4.如权利要求1所述方法,其特征在于,步骤(1)中,所述光刻胶胶柱结构为周期性阵列;

5.如权利要...

【专利技术属性】
技术研发人员:张有为杨波田洪宇白彦峥王顺
申请(专利权)人:华中科技大学
类型:发明
国别省市:

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