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本技术涉及镓粒制备技术领域,且公开一种可制备质量均匀可控的镓粒的装置,包括制备箱;所述制备箱内开设有空腔且空腔内安装有隔板,所述隔板将空腔分隔成镓液腔以及冷却腔,所述制备箱上安装有位于冷却腔内的均粒旋转件以及用于驱动均粒旋转件在冷却腔内上下...该专利属于华厦半导体(深圳)有限公司所有,仅供学习研究参考,未经过华厦半导体(深圳)有限公司授权不得商用。
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本技术涉及镓粒制备技术领域,且公开一种可制备质量均匀可控的镓粒的装置,包括制备箱;所述制备箱内开设有空腔且空腔内安装有隔板,所述隔板将空腔分隔成镓液腔以及冷却腔,所述制备箱上安装有位于冷却腔内的均粒旋转件以及用于驱动均粒旋转件在冷却腔内上下...