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本发明公开了一种电穿孔转染表皮干细胞的方法，所述方法采用Dnase I对表皮干细胞进行电穿孔转染。所述Dnase I的浓度范围为20～60U，优选为40U。本发明能实现电穿孔转染后第三天细胞数量3.88E4/cm2，细胞活率高达91.70％...
该专利属于上海精缮生物科技有限责任公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海精缮生物科技有限责任公司授权不得商用。

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