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本发明涉及用于针对双图案化过程进行光刻验证的方法和系统。本发明的一个实施例提供一种针对掩膜布局的双图案化过程进行光刻验证而不进行掩膜布局的全轮廓仿真的系统。在操作期间，该系统通过接收双图案化过程的第一光刻步骤中使用的第一掩膜和双图案化过程的...
该专利属于新思科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过新思科技有限公司授权不得商用。

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