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本发明涉及光刻工艺技术领域，具体是指一种适用于多种材料的光刻工艺。微粒清除，微粒清除包括高压氮气吹除、化学湿法清洗、高压水流喷洗，脱水烘焙，晶圆涂底胶，晶圆涂底胶包括在晶圆表面建立薄的、均匀的，并且没有缺陷的光刻胶膜，旋转涂胶，旋转涂胶包括...
该专利属于邓玉金所有，仅供学习研究参考，未经过邓玉金授权不得商用。

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