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本技术公开了一种单晶炉漏硅引流装置，涉及单晶硅制备技术领域，包括石英坩埚和竖直通道，竖直通道的顶部和石英坩埚的底部相连通，石英坩埚底部的四周固定安装有钼导流板，钼导流板的底部固定安装有硅溶液导流收集机构；硅溶液导流收集机构包括钼导流环、钼接...
该专利属于晶澳（无锡）光伏科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过晶澳（无锡）光伏科技有限公司授权不得商用。

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