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本发明提供一种清洗方法，包括步骤：判断拉制单晶后具有氧化缺陷的缺陷籽晶是否满足再利用条件；第一清洗，采用碱性溶液或酸性溶液作为清洗溶液对满足再利用条件的缺陷籽晶进行清洗；第二清洗，采用酸性溶液或碱性溶液作为清洗溶液对第一清洗之后的缺陷籽晶进...
该专利属于天合光能股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过天合光能股份有限公司授权不得商用。

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