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本发明提供了一种硅光器件及其加工工艺。本发明的硅光器件包括衬底、波导、介质层、第一空腔结构和第二空腔结构。位于所述介质层内并分别靠近所述波导的相对两侧设置所述第一空腔结构和所述第二空腔结构，并使所述介质层填充所述波导与各所述空腔结构之间的区...
该专利属于上海集成电路研发中心有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海集成电路研发中心有限公司授权不得商用。

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