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本技术提供了一种清洗设备，属于半导体制造技术领域。清洗设备，包括：设备本体内设置有清洗槽，清洗槽用于容纳对待清洗件进行清洗的清洗液；位于清洗槽上方的升降抖动机构，升降抖动机构朝向清洗槽的一侧设置有机械臂；位于机械臂的端部的挂杆和两个支撑杆，...
该专利属于西安奕斯伟材料科技股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过西安奕斯伟材料科技股份有限公司授权不得商用。

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