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公开了一种用于半导体制造设备的陶瓷加热器，该陶瓷加热器具有优于用于半导体制造设备的普通陶瓷加热器的高温下的体积电阻率和室温下的热导率。该用于半导体制造设备的陶瓷加热器包括：陶瓷基板，其包括a)氮化铝(AIN)、b)氧化镁(MgO)、氧化铝(...
该专利属于KSM元件株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过KSM元件株式会社授权不得商用。

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