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本发明提供一种用于原位测量膜厚的方法、参考光谱生成方法及设备，所述方法包括：获取具有第一类层和第二类层的光谱计算模型，其中所述第二类层位于所述第一类层和晶圆薄膜之间；确定所述第一类层、所述第二类层、所述晶圆薄膜和晶圆基底的光谱参数；利用所述...
该专利属于北京特思迪半导体设备有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过北京特思迪半导体设备有限公司授权不得商用。

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