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本发明构思提供了一种用于处理基板的装置和方法。该基板处理装置包括：液体处理腔室；支承件，该支承件配置为在液体处理腔室内支承基板；第一处理液供应单元，该第一处理液供应单元配置为将第一处理液供应至液体处理腔室、以用第一处理液来处理基板；以及第二...
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