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根据本发明实施例的一种半导体及显示器工艺的废气处理装置，包括：预处理单元，形成有流入口及排出口，向通过上述流入口流入的废气喷射洗涤液，以一次处理废气中的粒子性物质及酸性气体；反应单元，同时处理从上述预处理单元排出的废气中的氟化合物及一氧化二...
该专利属于玛特普拉斯有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过玛特普拉斯有限公司授权不得商用。

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