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本发明提供了一种化学机械抛光液，包括研磨颗粒、研磨颗粒稳定剂、腐蚀抑制剂、络合剂、氧化剂、pH调节剂和水。本发明中的一种化学机械抛光液，通过在抛光液中加入合适研磨颗粒稳定剂，抑制TEOS的去除速率，并提高Co/TEOS的选择比，同时减少晶圆...
该专利属于安集微电子科技（上海）股份有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过安集微电子科技（上海）股份有限公司授权不得商用。

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