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本发明提供一种参数控制方法以及曝光方法，参数控制方法包括：在扫描曝光前，获取基板面形数据和掩模面形数据；基于基板面形数据和掩模面形数据，得到工件台调整量和物镜调整量，并形成工件台运动轨迹和物镜运动轨迹；对物镜运动轨迹进行平滑处理，得到平滑后...
该专利属于上海交通大学所有，仅供学习研究参考，未经过上海交通大学授权不得商用。

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