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本文提供用于填充基板中的特征的方法及相关设备的实施例。在一些实施例中，一种填充基板中的特征的方法包括：经由物理气相沉积(PVD)工艺在特征中沉积氮化钨的晶种层；经由PVD工艺在特征中的氮化钨的晶种层上沉积钨的衬垫层；及随后经由化学气相沉积(...
该专利属于应用材料公司所有，仅供学习研究参考，未经过应用材料公司授权不得商用。

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