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本申请提供了组合物及其制备方法、图案化薄膜、图案化基底、半导体器件及其制备方法。该组合物中的添加剂可以抑制金属有机团簇在溶剂中的定向排列，从而使得组合物可在常温或低温下长时间储存，并且，长时间存储后组合物涂布形成的涂层的均一性和曝光稳定性均...
该专利属于珠海基石科技有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过珠海基石科技有限公司授权不得商用。

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