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本发明涉及一种放射性同位素制造装置，在使用多个种类的靶来制造放射性同位素的情况下，能够容易地调整粒子线的能量。降能器保持部(3)能够切换配置于针对对象靶(10X)的粒子线(B)的照射路径的中途的对象降能器(40X)。降能器保持部(3)能够从...
该专利属于住友重机械工业株式会社所有，仅供学习研究参考，未经过住友重机械工业株式会社授权不得商用。

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