放射性同位素制造装置制造方法及图纸

本发明专利技术涉及一种放射性同位素制造装置，在使用多个种类的靶来制造放射性同位素的情况下，能够容易地调整粒子线的能量。降能器保持部(3)能够切换配置于针对对象靶(10X)的粒子线(B)的照射路径的中途的对象降能器(40X)。降能器保持部(3)能够从多个降能器(40)中进行选择而将其配置于照射路径上，以使照射到对象靶(10X)的粒子线(B)的能量与该对象靶(10X)的种类对应。粒子线(B)在照射路径的中途通过对象降能器(40X)将能量调整成为适当能量的状态下向对象靶(10X)照射。因此，仅通过降能器保持部(3)切换降能器(40)的简单动作就能够进行粒子线(B)的能量调整。

【技术实现步骤摘要】

本申请主张基于2022年12月23日申请的日本专利申请第2022-206367号的优先权。该日本申请的全部内容通过参考援用于本说明书中。本专利技术涉及一种放射性同位素制造装置。

技术介绍

1、如专利文献1中所记载，已知一种通过向靶照射粒子线而得到放射性同位素(ri：radio isotope)的装置。这样的放射性同位素用于制造在医院等的pet检查(正电子断层摄影检查)等中所使用的放射性药剂。

2、专利文献1：日本特开2019-087461号公报

3、在此，在放射性同位素制造装置中，为了制造多核素的放射性同位素，有时会交换使用多种靶。此时，根据靶的种类，放射性同位素的制造所需的粒子线的能量不同。为了调整粒子线的能量，可以考虑调整在加速器侧照射的粒子线的能量本身，但存在调整花费时间劳力这样的问题。并且，可以考虑在靶的上游侧配置降能器来调整粒子线的能量，但存在粒子线的能量被固定，难以与多种靶对应这样的问题。

技术实现思路

1、本专利技术的目的在于提供一种放射性同位素制造装置，在使用多个种类的本文档来自技高网...

【技术保护点】

1.一种放射性同位素制造装置，向靶照射粒子线来制造放射性同位素，所述放射性同位素制造装置具备：

2.根据权利要求1所述的放射性同位素制造装置，其中，

3.根据权利要求1所述的放射性同位素制造装置，其中，

4.根据权利要求1所述的放射性同位素制造装置，其中，

5.根据权利要求1所述的放射性同位素制造装置，其中，

6.根据权利要求1所述的放射性同位素制造装置，其中，

【技术特征摘要】

1.一种放射性同位素制造装置，向靶照射粒子线来制造放射性同位素，所述放射性同位素制造装置具备：

2.根据权利要求1所述的放射性同位素制造装置，其中，

3.根据权利要求1所述的放射性同位素制...

【专利技术属性】
技术研发人员：永易真好，
申请(专利权)人：住友重机械工业株式会社，
类型：发明
国别省市：