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本发明公开了一种用光学显微镜自动监控硅片周边去边及缺陷的方法，包括以下步骤：一．选择硅片，用自动检测仪器进行扫描，生成原始数据文件；二．通过系统软件编辑所述原始数据文件，在自动检测仪器扫描范围之外的硅片边缘无效晶片区添加虚拟晶片，在添加的虚...
该专利属于上海华虹ＮＥＣ电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹ＮＥＣ电子有限公司授权不得商用。

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