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本发明涉及集成电路制造工艺领域，公开了一种用于解决在高台阶基底条件下光刻胶涂布异常的方法，包括以下步骤：步骤一、在高台阶衬底上首先涂布一层可显影抗反射材料，用于降低表面的台阶上需要涂光刻胶位置起伏的高度；步骤二、在可显影抗反射材料之上涂布光...
该专利属于上海华虹ＮＥＣ电子有限公司所有，仅供学习研究参考，未经过上海华虹ＮＥＣ电子有限公司授权不得商用。

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