下载全息记录介质、用于形成光聚合物层的组合物和光学元件的技术资料

文档序号:41832421

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本发明涉及全息记录介质和包括所述全息记录介质的光学元件,其中在光照射之前光聚合物层与粘合剂保护层之间的粘合力为500gf/20nm至5,000gf/20nm,以及光聚合物层的雾度值为3%或更小。...
该专利属于株式会社LG化学所有,仅供学习研究参考,未经过株式会社LG化学授权不得商用。

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